美調整對中晶片設備政策 續控高階製程以維持 AI 優勢

法案修減與新限制並存

根據路透社所見美國國會草案最新版本，一項旨在限制更多晶片製造設備流向中國的法案已被縮減。與 4 月初版本相比，許多限制已被移除，包括對低溫蝕刻設備的全面性限制，這些設備由美國的科林研發（Lam Research）和日本的東京威力科創（Tokyo Electron）製造。

持續強化對 ASML 的限制

儘管部分限制被移除，法案仍持續納入對艾司摩爾（ASML）深紫外光（DUV）浸潤式微影機臺的全國性新限制。美方強調，此舉是為「彌補漏洞、確保美國與盟友政策保持一致」，以捍衛國家在 AI 領域優勢。

政策目標與市場反應

美國調整高階 AI 晶片對中出口政策，採取「逐案審查＋關稅配套」機制。市場對此政策反應分歧，正面觀點認為，政策調整有助於美系晶片廠重新取得中國大型科技企業的部分需求，對營收與毛利形成支撐；特別是在過去僅能供應性能受限的機臺。