俄自研EUV光刻機，打破ASML壟斷，走出了一條新路
俄羅斯計劃自主開發EUV光刻機
據國際電子商情2024年12月20日從外媒獲悉，俄羅斯正積極尋求獨立發展相關技術，計劃自主開發EUV光刻機，目標是製造出比ASML光刻機更便宜且具備競爭力的產品。
可能打破ASML技術壟斷
俄羅斯自研EUV光刻機的重大突破，或將打破ASML在該領域的技術壟斷，為全球半導體產業帶來新的變革。EUV光刻機是製造先進芯片的核心設備，其技術長期被ASML所主導。
全球光刻機市場現狀
目前全球光刻機市場中，ASML一家就壟斷了70%以上，特別是EUV光刻機，ASML壟斷了100%，高端的浸潤式DUV光刻機，ASML也壟斷了80%以上，顯示出其在高端光刻機市場的絕對主導地位。
相關背景與趨勢
- ASML是全球光刻機市場的領導者，其技術長期被視為半導體制造的“皇冠”。
- 面對技術封鎖與地緣政治挑戰，俄羅斯正積極尋求技術自主，以擺脫對西方技術的依賴。
- 中國也在持續推進光刻機研發，部分報道指出復旦大學等機構可能在高端芯片製造領域取得突破，不依賴EUV光刻機。