EUV光刻機，不夠賣了
全球EUV光刻機供需失衡，市場出現嚴重供不應求
ASML的EUV光刻機因技術門檻極高，全球僅荷蘭ASML一家能製造，導致市場出現嚴重供需失衡。儘管需求旺盛，但實際交付量卻遠低於預期，引發供應鏈緊張。
主要客戶需求變化，臺積電與三星調整採購策略
臺積電曾計劃採購10臺EUV光刻機，但近期傳出暫停採購計劃，疑似因ASML優先將2納米EUV光刻機賣給英特爾，引發不滿。三星方面則因在7納米及以下工藝上遭遇失敗，已決定縮減三分之一的先進芯片產能，間接影響EUV光刻機需求。
EUV光刻機價格高昂，市場門檻持續升高
央媒報道指出，一臺頂級EUV光刻機售價高達4億美元（約合29億元人民幣），遠超一般企業承受能力，使得半導體行業的“入場費”大幅上漲，普通企業難以參與競爭。
中國研發進展引發關注，但技術複製仍面臨巨大挑戰
儘管有消息稱中國科學家在深圳實驗室成功打造首臺EUV光刻機，且依賴前ASML工程師及逆向拆解工程，但整體技術仍面臨巨大障礙。EUV光刻技術對測試與生產流程的複雜性極高，逆向工程幾乎無法複製，技術壁壘依然穩固。
美國政策影響，中國曾大量採購導致庫存積壓
美國曾限制EUV光刻機向中國出口，但未限制DUV及其他耗材，導致中國在早期大量採購，形成庫存積壓。此舉也反映出全球半導體供應鏈的複雜性與地緣政治影響。
ASML面臨訂單削減，市場信心受衝擊
供應鏈消息指出，ASML在2024年面臨臺積電大幅削減40%EUV光刻機訂單的傳聞，部分訂單被取消或延期交付，顯示市場需求已出現結構性調整，反映出行業內部競爭與技術路線的不確定性。