臺積電暫不採購阿斯麥最新光刻機

高管公開表示設備價格過高

4月22日，臺積電副共同營運長張曉強在公開場合表示，公司目前暫無採用阿斯麥（ASML）最新高數值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV）的計劃。

張曉強強調，該類設備單臺價格超過3.5億歐元，摺合新臺幣近28億元，被形容為「非常非常貴」。

據報導，該款最新設備單價是普通EUV設備的近1.8倍。臺積電方面表示，其計劃投產的A13和A12晶片均無需使用High-NA EUV光刻設備，將繼續使用ASML的Low-NA EUV設備及透過工藝優化來實現2029年的穩定產量路線。

此消息引發市場關注，分析指出超高定價源於獨家光學組件、複雜光源系統及漫長調試週期，加之全球僅阿斯麥能供應，進一步推高了終端售價。臺積電暫不採購的決定，顯示其在面對昂貴設備時仍優先考量成本效益與現有技術路線。