AI晶片量產迎新里程 ASML將推新一代EUV設備
ASML新一代EUV設備已準備量產
荷蘭半導體生產設備製造商ASML表示，其新一代極紫外光（EUV）光刻機已準備好供晶片製造商大規模投入使用，這將是AI晶片產業發展的重要里程碑。
提升晶片製程效率與成本
ASML數據顯示，這款新設備可省去晶片製程中多個成本高昂且複雜的步驟，有助臺積電、英特爾（Intel）等晶片製造商生產更強大、更高效的晶片。
High-NA EUV設備稼動率提升
ASML已將High-NA EUV設備的稼動率提升至80%，並計畫在本年度底前達到90%。該設備已處理50萬片晶圓，有效改善了製程中的多項問題。
未來技術發展方向
ASML已投入數十億美元開發EUV系統，新一代機臺即將量產，並著手研究下一世代技術。隨著AI晶片架構日益複雜，晶片設計已從「平面式」轉向更先進的結構。
EUV光源技術突破
ASML研究員發現方法，可將EUV光源功率從現今的600瓦特提升至1,000瓦特，使每小時生產更多晶片，有助降低每個晶片的成本。