EUV光刻機不是唯一終局，荷蘭開始瞄準光子芯片，中國走在了前面
背景與現狀
全球半導體產業正面臨技術演進的轉折點。儘管EUV（極紫外線）光刻機被視為芯片製造的頂尖技術，但其並非唯一的發展路徑。荷蘭的ASML公司作為全球唯一能生產EUV光刻機的廠商，長期主導高端芯片製造，但近年來受到美國施壓，限制向中國出口相關設備。
美國與荷蘭的博弈
自2018年起，美國持續向荷蘭政府施壓，要求其阻止阿斯麥（ASML）向中國出口先進光刻機，尤其是EUV光刻機。儘管荷蘭在2018年曾發放出口許可，允許向中國公司交付一臺價值1.5億美元的EUV光刻機，但後續仍多次受到美國“國家安全”相關措施的牽制。
中國的技術佈局
中國在EUV光刻機的研發上早於西方預期。據外媒分析，中國早在2018年便已開始申請EUV光刻相關專利，顯示出其在芯片技術自主研發上的長期投入與佈局，凸顯出對核心技術自主可控的迫切需求。
荷蘭轉向光子芯片
面對EUV光刻機出口受限的挑戰，荷蘭正逐步將戰略重心轉向光子芯片（photonics chips）領域。光子芯片利用光而非電子進行信息傳輸，被視為未來芯片技術的重要替代方向，可能成為突破傳統半導體瓶頸的新路徑。
新興技術進展
美國半導體初創企業Substrate於2025年11月宣佈，已研發出基於X光的新型曝光技術，其解析度可媲美ASML最先進的EUV光刻機，單臺造價超過4億美元，顯示全球在替代性光刻技術上正加速突破。